純凈水設(shè)備

EDI-電去離子設(shè)備

發(fā)布時(shí)間：2018-04-01

EDI-電去離子設(shè)備-電去離子設(shè)備,純凈水設(shè)備,產(chǎn)品-淄博市博山長(zhǎng)水凈化設(shè)備有限公司:電去離子設(shè)備(EDI) 電去離子設(shè)備(EDI)是八十年代中期開發(fā)的一種新高純水制取技術(shù)，在技術(shù)十分成熟的基礎(chǔ)上，已經(jīng)逐步市場(chǎng)化。EDI的技術(shù)特點(diǎn)是：一方面將離子交換與電滲析技術(shù)

電去離子設(shè)備(EDI)
     電去離子設(shè)備(EDI)是八十年代中期開發(fā)的一種新高純水制取技術(shù)，在技術(shù)十分成熟的基礎(chǔ)上，已經(jīng)逐步市場(chǎng)化。
EDI的技術(shù)特點(diǎn)是：一方面將離子交換與電滲析技術(shù)組結(jié)合，使水中的離子在樹脂表面進(jìn)行交換，而后在電場(chǎng)的作用下，被交換下來的離子沿電場(chǎng)方向遷移，穿過EDI膜，并隨濃水排出。另一方面，由于電場(chǎng)的作用，水中的H+和OH－離子又會(huì)對(duì)樹脂進(jìn)行穩(wěn)定而連續(xù)地再生。使EDI系統(tǒng)對(duì)入水的凈化脫鹽始終處于一種高效的狀態(tài)。
 
一、規(guī)格型號(hào)

 根據(jù)不同用途，EDI系統(tǒng)可根據(jù)電阻率為2－18MΩ?CM(25℃)的超純水。因此，廣泛的應(yīng)用于生物制藥、微電子及半導(dǎo)體、發(fā)電廠、實(shí)驗(yàn)室分析等領(lǐng)域，同時(shí)在鍍膜及晶體的表面清洗、表面涂裝、電解及化工行業(yè)也將得到進(jìn)一步的應(yīng)用。

二、與離子交換技術(shù)相比，EDI系統(tǒng)有以下無可比擬的優(yōu)點(diǎn)：
     ――無需化學(xué)再生。再生是由電離狀態(tài)的水即H+和OH-完成的；
     ――再生時(shí)無需停機(jī)。當(dāng)開機(jī)使用時(shí)，再生也就開始了；
     ――出水水質(zhì)穩(wěn)定。在一定的電壓下，出水電阻率值基本不變
     ――運(yùn)行費(fèi)用低。一般運(yùn)行電流為2－3安培，電壓在30－350伏之內(nèi)；
     ――無化學(xué)物質(zhì)排放；

三、反滲透凈化水作為EDI的給水，入水條件如下：
      PH值：5.0－9.5(PH范圍7.0-8.0時(shí)容易產(chǎn)出高純水，但硬度不能太高)，注意此時(shí)如果PH較低通常表明入水中存在影響產(chǎn)品水質(zhì)的CO2；
      電導(dǎo)率：RO給水：4－30us/cm，最適宜為4－10us/cm；
      溫度：5－35℃；
      入水壓力：1.5－4.0kg/cm2
      出水壓力：產(chǎn)水出口壓力應(yīng)大于濃水出口壓力；
      硬度；(以CaCO3計(jì))最高允許值為1ppm，建議為0.1ppm；
      CO2：建議小于5ppm，當(dāng)大于10ppm時(shí)應(yīng)在RO系統(tǒng)之前安裝脫氣裝置或升高PH值；
      二氣化硅：最大為0.05ppm但一般Ro出水為50-150ppb；
      有機(jī)物：最大為0.5ppmToC,建議為未檢出；
      氧化劑：最大為0.05ppm(C12)，0.02ppm(o3)建議為未檢出；
      金屬：最大為0.01ppm，主要是鐵、錳等變價(jià)金屬；